特許

J-GLOBAL ID：200903032899740712

気相成長装置用クリーニング方法及び装置

発明者： 高橋 道生 ,  香村 幸夫
出願人/特許権者： 古河電気工業株式会社
代理人 (1件)： 松本 英俊
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-170518
公開番号（公開出願番号）：特開平6-013319
出願日： 1992年06月29日
公開日（公表日）： 1994年01月21日
要約：

【要約】【目的】反応容器内面の汚れを抑制しつつクリーニングを行うことができる気相成長装置用クリーニング方法を提供する。【構成】反応容器11内でクリーニング対象物であるサセプタ4及びトレー8と反応容器11との中間に中間筒体22を配置した状態で、サセプタ4及びトレー8のクリーニングを行う。

請求項（抜粋）：

反応容器内にクリーニング対象物を置き、前記クリーニング対象物の汚れを気化させて除去する気相成長装置用クリーニング方法において、前記反応容器内で前記クリーニング対象物と該反応容器との中間に中間筒体を配置した状態で、前記クリーニング対象物のクリーニングを行うことを特徴とする気相成長装置用クリーニング方法。