特許
J-GLOBAL ID：200903032900737879

加熱装置及び画像形成装置

発明者：
本村 修二

本村 修二 について


出願人/特許権者：
株式会社リコー

株式会社リコー について


代理人 (1件)： 樺山 亨 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-317574
公開番号（公開出願番号）：特開2002-124371
出願日： 2000年10月18日
公開日（公表日）： 2002年04月26日
要約：
【要約】【課題】 この発明は、ウォームアップタイムが長いなどという課題を解決しようとするものである。【解決手段】 この発明は、磁束を生成する磁束生成手段2と、この磁束生成手段2による磁束の作用で発熱する誘導発熱体を有する加熱体1とを有し、被加熱体6を加熱する加熱装置において、加熱体1の温度が高くなるにつれて磁束生成手段2と誘導発熱体との距離を段階的に若しくは連続的に増加させ、加熱体1の温度が低くなるにつれて磁束生成手段2と誘導発熱体との距離を段階的に若しくは連続的に減少させる手段を備えたものである。
請求項（抜粋）：
磁束を生成する磁束生成手段と、この磁束生成手段による磁束の作用で発熱する誘導発熱体を有する加熱体とを有し、被加熱体を加熱する加熱装置において、前記加熱体の温度が高くなるにつれて前記磁束生成手段と前記誘導発熱体との距離を段階的に若しくは連続的に増加させ、前記加熱体の温度が低くなるにつれて前記磁束生成手段と前記誘導発熱体との距離を段階的に若しくは連続的に減少させる手段を備えたことを特徴とする加熱装置。
IPC (5件)：
H05B 6/14 ,  G03G 15/20 101 ,  G03G 15/20 109 ,  H05B 6/06 393 ,  H05B 6/44
FI (5件)：
H05B 6/14 ,  G03G 15/20 101 ,  G03G 15/20 109 ,  H05B 6/06 393 ,  H05B 6/44
Fターム (26件)：
2H033AA03 ,  2H033AA09 ,  2H033AA30 ,  2H033BA11 ,  2H033BA12 ,  2H033BA25 ,  2H033BA26 ,  2H033BA31 ,  2H033BA32 ,  2H033BE06 ,  2H033CA04 ,  2H033CA07 ,  2H033CA30 ,  2H033CA44 ,  2H033CA48 ,  3K059AA08 ,  3K059AB04 ,  3K059AB24 ,  3K059AC33 ,  3K059AC54 ,  3K059AD02 ,  3K059AD03 ,  3K059AD05 ,  3K059AD13 ,  3K059CD32 ,  3K059CD65
引用特許：
審査官引用 (3件)
  • 定着装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-083179   出願人：東芝テック株式会社, 株式会社東芝
  • 特開平2-270287
  • 特開平2-168591

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