特許

J-GLOBAL ID：200903032907848757

静電吸着保持装置

発明者： 久保田 芳宏 ,  川合 信 ,  小嶋 伸次
出願人/特許権者： 信越化学工業株式会社
代理人 (1件)： 山本 亮一 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-193018
公開番号（公開出願番号）：特開平6-014570
出願日： 1992年06月26日
公開日（公表日）： 1994年01月21日
要約：

【要約】 (修正有)【目的】 本発明は高い静電吸着性を有し、脱着も容易であり、半導体プロセスに使用したときにデバイスダメージを与えることがない静電吸着保持装置の提供を目的とするものである。【構成】 本発明の静電吸着保持装置は、絶縁性誘電体層で被覆された導電体に電圧を印加して、この絶縁性誘電体層に試料を静電吸着させる静電吸着装置において、絶縁性誘電体層の主成分を炭化けい素を 0.5〜30重量%含有するセラミックスとすると共に、この絶縁性誘電体層の20°Cにおける体積固有抵抗を108 〜1013Ωcmのものとしてなることを特徴とするものである。

請求項（抜粋）：

絶縁性誘電体層で被覆されている導電体に電圧を印加して、この絶縁性誘電体層に試料を静電吸着させる静電吸着装置において、絶縁性誘電体層の主成分を炭化けい素を 0.5〜30%含有するセラミックスとすると共に、この絶縁性誘電体層の20°Cにおける体積固有抵抗を108 〜1013Ωcmのものとしてなることを特徴とする静電吸着保持装置。

IPC (3件)：

H02N 13/00 ,  B23Q 3/15 ,  H01L 21/68