特許

J-GLOBAL ID：200903032912687869

インクジェット記録装置のノズル基体の製造方法と、そのインクジェット記録装置のノズル基体およびそれを使用したインクジェット記録装置

発明者： 吉田 雄二 ,  藪 亮輔
出願人/特許権者： 富士通株式会社
代理人 (1件)： 井桁 貞一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-071281
公開番号（公開出願番号）：特開2000-263794
出願日： 1999年03月17日
公開日（公表日）： 2000年09月26日
要約：

【要約】【課題】 インクジェット記録装置のノズル基体はノズル孔周縁部を凹状の段差を設けるためのメッキを施した後に撥水処理をする必要がある。従って、このメッキ工程の製造工程が必要となる。また各ノズル孔表面の撥水層の形状が不均一である。従って、各ノズル孔から吐出するインク滴の方向が揃わない。【解決手段】 インクジェット記録装置のノズル基体の製造方法であって、インク噴射用のノズル孔を有したノズル基体の一方の面上に被覆膜を設ける工程と、ノズル基体上の前記被覆膜を流動化する工程と、前記被覆膜の一部を前記ノズル基体に設けられた前記ノズル孔を介して圧力差により他方の面側に突出させる工程と、前記ノズル孔から突出した被覆膜の一部をマスクとしてノズル基体の他方の面に撥水処理を施す工程を経て製造されることを特徴とするインクジェット記録装置のノズル基体の製造方法を提供する。

請求項（抜粋）：

インクジェット記録装置のノズル基体の製造方法であって、インク噴射用のノズル孔を有したノズル基体の一方の面上に被覆膜を設ける工程と、ノズル基体上の前記被覆膜を流動化する工程と、前記被覆膜の一部を前記ノズル基体に設けられた前記ノズル孔を介して圧力差により他方の面側に突出させる工程と、前記ノズル孔から突出した被覆膜の一部をマスクとしてノズル基体の他方の面に撥水処理を施す工程を経て製造されることを特徴とするインクジェット記録装置のノズル基体の製造方法。

IPC (2件)：

B41J 2/135 ,  B41J 2/01

FI (2件)：

B41J 3/04 103 N ,  B41J 3/04 101 Z

Fターム (14件)：

2C056EA04 ,  2C056EA21 ,  2C056EA24 ,  2C056FA02 ,  2C056HA01 ,  2C057AF23 ,  2C057AF93 ,  2C057AG07 ,  2C057AG14 ,  2C057AP02 ,  2C057AP13 ,  2C057AP55 ,  2C057AP60 ,  2C057AQ06