薄膜磁気ヘッド及びその製造方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：小池晃 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-076981
公開番号（公開出願番号）：特開平8-279108
出願日： 1995年03月31日
公開日（公表日）： 1996年10月22日
要約：

【要約】【目的】本発明は、コイルパターン不良を改善し、導体コイルの信頼性に優れる薄膜磁気ヘッド及びその製造方法を提供するこ目的とする。【構成】上層磁性コア2と下層磁性コア1とを有し、下層磁性コア1の上部にコイル平坦化層7を介して導体コイル3が形成されてなる薄膜磁気ヘッドである。そして、上記下層磁性コア1が非磁性無機絶縁材料層13に埋め込まれ、平坦化されている。この絶縁材料層13はAl2O3又はSiO2からなることが好ましい。一方、製造方法は、基板上4に所定形状の下層磁性コア1を形成した後、下層磁性コア1を覆って上記絶縁材料13を成膜し下層磁性コア1が略々露出するまで絶縁材料膜13を平坦化する工程と、この上にコイル平坦化層7を介して導体コイル3を形成する工程と、上層磁性コア2を所定形状に形成する工程とを有する。

請求項（抜粋）：

上層磁性コアと下層磁性コアとを有し、下層磁性コアの上部にコイル平坦化層を介して導体コイルが形成されてなる薄膜磁気ヘッドにおいて、上記下層磁性コアが非磁性無機絶縁材料層に埋め込まれ、平坦化されていることを特徴とする薄膜磁気ヘッド。

IPC (2件)：

G11B 5/31 , G11B 5/39

FI (4件)：

G11B 5/31 A , G11B 5/31 F , G11B 5/31 M , G11B 5/39

前のページに戻る