特許
J-GLOBAL ID：200903032975223706
レチクルの合わせ測定用マーク
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
高橋 光男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-016075
公開番号（公開出願番号）：特開平10-213895
出願日： 1997年01月30日
公開日（公表日）： 1998年08月11日
要約：
【要約】【課題】 レチクルの位置合わせ精度を向上できるような合わせ精度測定用マークを備えたレチクルを提供する。【解決手段】 本レチクル30は、フォトリソグラフィによりウエハ上にパターンを転写する際に使用するレチクルであって、スクライブライン領域34に設けられた合わせ精度測定用マーク40を構成する線状域42、44が、レチクルのチップ領域32の回路パターンを構成する図形と同じ図形の集合からなる。
請求項（抜粋）：
フォトリソグラフィによりウエハ上に回路パターンを転写する際に使用するレチクルの合わせ測定用マークであって、レチクルのスクライブライン領域に設けた合わせ精度測定用マークが、微細図形の集合で構成されていることを特徴とするレチクルの合わせ測定用マーク。
IPC (2件)：
FI (3件)：
G03F 1/08 N
, H01L 21/30 502 M
, H01L 21/30 502 V
