特許

J-GLOBAL ID：200903032982756841

含フッ素共重合体の製造方法

発明者： 中原 昭彦 ,  井関 祐二 ,  大森 一幸 ,  江崎 龍夫
出願人/特許権者： 徳山曹達株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-078173
公開番号（公開出願番号）：特開平6-128335
出願日： 1993年04月05日
公開日（公表日）： 1994年05月10日
要約：

【要約】【目的】機械的強度の向上した含フッ素重合体を短時間の重合で製造する。【構成】テトラフルオロエチレンおよび下記一般式RfCH2OCF=CF2(但し、Rfはハロゲン化炭化水素基である。)で示される含フッ素ビニルエーテル、例えば、2,2,3,3,3-ペンタフルオロプロピルトリフルオロビニルエーテルとを、重合反応開始時における重合槽中の液相に存在する全モノマーに対して0.001〜0.012モル%のラジカル重合開始剤、および0.2〜2モル%の連鎖移動剤の存在下に、これらモノマーの濃度がほぼ一定となるようにこれらを重合槽に供給しつつ重合して含フッ素共重合体を製造する。さらに、これをフッ素化してパーフルオロ共重合体を製造する。

請求項（抜粋）：

テトラフルオロエチレンおよび下記一般式RfCH2OCF=CF2(但し、Rfはハロゲン化炭化水素基である。)で示される含フッ素ビニルエーテルを重合槽で重合して含フッ素共重合体を製造する方法において、重合反応開始時における重合槽中の液相に存在する全モノマーに対して0.001〜0.012モル%のラジカル重合開始剤、および0.2〜2モル%の連鎖移動剤の存在下に、重合槽中のテトラフルオロエチレンおよび含フッ素ビニルエーテルの濃度がほぼ一定となるようにこれらを重合槽に供給しつつ重合することを特徴とする含フッ素共重合体の製造方法。

IPC (5件)：

C08F214/26 MKQ ,  C08F 2/00 MAH ,  C08F 2/00 MAL ,  C08F 8/22 MGT ,  C08F216/14 MKZ

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 特開平4-226512