特許
J-GLOBAL ID：200903032993244478
凹版オフセツト印刷法
発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-323616
公開番号（公開出願番号）：特開平5-092541
出願日： 1991年10月02日
公開日（公表日）： 1993年04月16日
要約：
【要約】 (修正有)【目的】 凹版によるオフセット印刷法において、特に平面にかぎらず凹凸面のある被印刷体へ、連続的かつ高速で印刷できる新技術の開発。【構成】 凹版によりインキ転移用ローラを介して印刷する間接的(オフセット)印刷法において、該ローラのインキ転移部の形状がゴム弾性を有する山形凸状ロールであること及び凹版として特に1〜10ミクロン深度の水なし平版を用い、これと前記山形凸ロールとを組合せた凹版オフセット印刷法からなる。【効果】 凹凸面のある被印刷体、電子部品等の小さな被印刷体への印刷を連続的にかつ高速度に印刷できる。
請求項（抜粋）：
凹版によりインキ転移用ローラを介して間接的に印刷する凹版オフセット印刷において、該ローラのインキ転移部がゴム弾性を有する高分子物質からなり、かつその形状が連続した山形状の凸ローラであることを特徴とする凹版オフセット印刷法。
IPC (2件)：
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