特許
J-GLOBAL ID:200903032994973651

シスジオールの測定方法、固体支持体および測定キット

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 遠藤 恭
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平5-298904
公開番号(公開出願番号):特開平7-020055
出願日: 1993年11月03日
公開日(公表日): 1995年01月24日
要約:
【要約】【目的】 シスジオールとの反応又は錯体生成に際しスペクトル変化を生ずる染料でサンプル中のシスジオールを測定する方法、これに使用する固体支持体、キットを提供する。【構成】 測定方法は、a)サンプルにシスジオールと反応するか錯体を生成し得る染料を接触させて染料のスペクトル変化を生じさせる工程、b)このスペクトル変化を測定してサンプル中のシスジオールを定量する工程を含む。固定支持体は、置換された1以上の染料を持ち、化1の構造式を有する。【化1】SU-[R2-(-N=N-R1-)m-N=N-R-(B(OH)2)n]x式中、SUは固体支持体、Rは未置換又は置換フェニレン、R1は未置換又は置換アリーレン、R2は未置換又は置換アリール、mは0又は1〜約4の整数、nは1〜2の整数、xは正の整数。キットは、a)シスジオールと反応するか錯体を生成してスペクトル変化を生ずる染料、b)染料をサンプルと接触させる手段、c)染料のスペクトル変化を測定してサンプル中のシスジオールを定量する手段を含む。
請求項(抜粋):
サンプル中のシスジオールを測定する方法であって、(a)前記サンプルに、シスジオールと反応するか、あるいは錯体を生成する能力を有する染料を接触させることによって、前記染料のスペクトル変化を生じさせる工程、および(b)前記染料の前記スペクトル変化を測定することによって、前記サンプル中のシスジオールの量を定量する工程を含むことを特徴とするシスジオールの測定方法。
IPC (2件):
G01N 21/77 ,  C07C 31/00

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