特許
J-GLOBAL ID：200903033001894871
テラヘルツ光発生装置
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
四宮 通
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-309133
公開番号（公開出願番号）：特開2003-115625
出願日： 2001年10月04日
公開日（公表日）： 2003年04月18日
要約：
【要約】【課題】 発生するテラヘルツ光の放射強度を増大させる。【解決手段】 テラヘルツ光発生素子1は、光伝導部としての基板11と、該基板11のXY平面と平行な面に形成され互いに分離された2つの導電部12,13とを有する。導電部12,13の少なくとも一部同士が、Y軸方向に所定間隔g1をあけるように配置される。照射部2は、テラヘルツ光発生素子1の所定の照射領域に励起パルス光を照射する。電圧印加部3は、導電部12,13間にバイアス電圧を印加する。照射部2は、シリンドリカルレンズ22等を含み、前記照射領域のX軸方向の長さが、照射領域のY軸方向の長さに比べて長くなるように、構成される。
請求項（抜粋）：
光伝導部と、該光伝導部の所定の面上に形成され互いに分離された2つの導電部とを有し、前記2つの導電部の少なくとも一部同士が前記所定の面に沿った第1の方向に所定間隔をあけるように配置されたテラヘルツ光発生素子と、前記テラヘルツ光発生素子の所定の照射領域に励起パルス光を照射する照射部と、前記2つの導電部間にバイアス電圧を印加する電圧印加部と、を備え、前記照射部は、前記所定の面に沿った第2の方向であって前記第1の方向と直交する第2の方向の前記照射領域の長さが、前記第1の方向の前記照射領域の長さに比べて長くなるように、構成されたことを特徴とするテラヘルツ光発生装置。
IPC (3件)：
H01S 1/02
, H01S 3/094
, H01S 3/16
H01S 1/02
, H01S 3/16
, H01S 3/094
5F072AB13
, 5F072JJ04
, 5F072PP10
, 5F072RR10
