有機物除去方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：小川勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-203404
公開番号（公開出願番号）：特開平10-050670
出願日： 1996年08月01日
公開日（公表日）： 1998年02月20日
要約：

【要約】【課題】ステージの下降時に周りの気体を巻き込み、異物の付着の恐れがある。【解決手段】ステージ4の下降時にステージ4の下降に見合ったガスを処理室1外より供給する。

請求項（抜粋）：

枚葉式で略1気圧のガスを流して基板上の有機物を除去し、前記基板と上部の仕切板との処理中のギャップが1mm以下で、処理終了時に前記基板を載せたステージを下降させる有機物除去装置において、前記ステージの下降時に前記基板と前記仕切板との間のギャップに処理室外よりガスを供給することを特徴とする有機物除去方法。

IPC (3件)：

H01L 21/3065 , G03F 7/42 , H01L 21/027

FI (3件)：

H01L 21/302 H , G03F 7/42 , H01L 21/30 572 A

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