特許
J-GLOBAL ID：200903033014959603
流体磁気処理装置
発明者：
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出願人/特許権者：
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公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-069637
公開番号（公開出願番号）：特開2002-263656
出願日： 2001年03月13日
公開日（公表日）： 2002年09月17日
要約：
【要約】【課題】 磁気照射の均一化を図り、また永久磁石間の距離を短くし、強度が高い磁気を有効に照射し、さら流体は各溝への衝突や、流体相互の衝突合流で流速の高速化を図り、磁気化効率を向上させると共に、衝突合流の際の複合的な剪断力で流体の混合・分散作用を具有させる。【解決手段】 積層構造体7から成り、第一プレート5は外側貫通孔8、第二プレート6は内側貫通孔9を備え、内側貫通孔9と外周貫通孔8は連通流路10で連通し、該連通流路10は、複数の環状溝11、11aと、複数の連通溝12、12aから構成し、連通流路10を挟むように永久磁石15、15aを装着して流体磁気処理構造体2と成し、ケーシング3内に収容している。
請求項（抜粋）：
第一プレートと第二プレートを積層した積層構造体から成り、第一プレートは外側貫通孔を複数穿設し、第二プレートは内側貫通孔を穿設し、該内側貫通孔と外周貫通孔は連通流路で連通し、該連通流路は、第一プレートの積層面若しくは第二プレートの積層面の何れか一方に、複数の環状溝を同心状に形成し、該環状溝のうち最も外側に位置する環状溝は外側貫通孔と連通させると共に、かかる内外の環状溝間には、放射状の連通溝を複数形成し、これらのうち最も外側に位置する連通溝は周方向で外側貫通孔の間に位置させると共に、最も内側に位置する環状溝の内側には、放射状の連通溝を複数形成して内側貫通孔と連通させ、かかる内外の連通溝は周方向で互いに間に位置させ、また連通流路を挟む第一プレートと第二プレートの表面に永久磁石を装着して流体磁気処理構造体と成し、出入口を有するケーシング内に流体磁気処理構造体を収容したことを特徴とする流体磁気処理装置。
IPC (3件)：
C02F 1/48
, F23K 5/08
, C10L 1/00
C02F 1/48 A
, F23K 5/08 C
, C10L 1/00
3K068AA11
, 3K068AB38
, 4D061DA03
, 4D061DB06
, 4D061EA18
, 4D061EC01
, 4D061EC07
, 4D061EC10
, 4D061EC19
, 4H013AA04
