特許

J-GLOBAL ID：200903033024326471

放射線撮像装置

発明者： 竹田 慎市 ,  高見 栄一 ,  遠藤 忠夫 ,  望月 千織 ,  林 眞一 ,  冨名腰 章 ,  森下 正和 ,  多胡 晃 ,  田村 敏和
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 山下 穣平
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-112326
公開番号（公開出願番号）：特開平9-297181
出願日： 1996年05月07日
公開日（公表日）： 1997年11月18日
要約：

【要約】【課題】 蛍光体で変換された間接光による光学的クロストーク等で起こる光学的ノイズの減少及び外光遮光に伴う装置の簡素化を促し、高画質で小型化、軽量化、及び低コスト化をはかり得る大面積の放射線撮像装置を提供する.【解決手段】 複数の光電変換素子が形成された透光性基板1と前記透光性基板1上に形成された蛍光体層CSIとを有する放射線撮像基板からなる放射線撮像装置において、前記放射線撮像基板は、少なくとも前記蛍光体層CSIの放射線入射面と、前記透光性基板1の前記光電変換素子が形成されている面とは反対側の面a及び前記透光性基板1の少なくとも1つの端面bが光吸収材料COT1で覆われていることを特徴とする放射線撮像装置。

請求項（抜粋）：

複数の光電変換素子が形成された透光性基板と前記透光性基板上に形成された蛍光体層とを有する放射線撮像基板からなる放射線撮像装置において、前記放射線撮像基板は、少なくとも前記蛍光体層の放射線入射面と、前記透光性基板の前記光電変換素子が形成されている面とは反対側の面、及び前記透光性基板の少なくとも1つの端面が光吸収材料で覆われていることを特徴とする放射線撮像装置。

IPC (4件)：

G01T 1/20 ,  H01L 27/14 ,  H01L 27/146 ,  H04N 5/30

FI (4件)：

G01T 1/20 E ,  H04N 5/30 ,  H01L 27/14 K ,  H01L 27/14 C

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 防湿シール構造を有する平面X線イメージャ
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-229699   出願人：ゼネラル・エレクトリック・カンパニイ
• イメージセンサ
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-233176   出願人：富士ゼロツクス株式会社
• 大領域能動マトリックス配列を製造する方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-018543   出願人：エヌ・ベー・フィリップス・フルーイランペンファブリケン
• 光電変換装置及びその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-355327   出願人：キヤノン株式会社