特許
J-GLOBAL ID:200903033033060980
油性固形化粧料
発明者:
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出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-252188
公開番号(公開出願番号):特開2004-091345
出願日: 2002年08月29日
公開日(公表日): 2004年03月25日
要約:
【課題】使用性に優れ、化粧膜のツヤ感、二次付着防止効果、保湿効果及びその持続に優れる油性固形化粧料に関する。【解決手段】特定のポリオキシアルキレン基含有シリコーン化合物、特定のフッ素変性環状シリコーン、特定の炭化水素油及び固形油とを含有することを特徴とする油性固形化粧料を提供するものである。【選択図】なし
請求項(抜粋):
次の成分(a)〜(d);
(a)下記一般式(1)で表されるポリオキシアルキレン基含有シリコーン化合物
R1aR2bR3cSiO(4-a-b-c)/2 ...(1)
(但し、式中のR1は炭素数1〜30のアルキル基、アリール基、アラルキル基、フッ素置換アルキル基、あるいは下記一般式(2)
-CmH2m-O-(C2H4O)d(C3H6O)e-R4 ...(2)
で表される有機基から選択される同種又は異種の有機基であり、
R2は下記一般式(3)
-CmH2m-O-(C2H4O)f(C3H6O)g-R5 ...(3)
で表されるポリオキシアルキレン基、
R3は下記一般式(4)
-CnH2n-(SiR1R1O)h-SiR13 ...(4)
で表されるオルガノシロキサンであって、R4は炭素数4〜30の炭化水素基又はR6-(CO)-で示される有機基、R5は水素原子若しくは炭素数1〜30の炭化水素基又はR6-(CO)-で示される有機基、R6は炭素数1〜30の炭化水素基である。a、b、cはそれぞれ1.0≦a≦2.5、0.001≦b≦1.5、0.001≦c≦1.5であり、d、eはそれぞれ0≦d≦50、0≦e≦50の整数であり、f、gはそれぞれ2≦f≦200、0≦g≦198、かつf+gが3〜200の整数である。また、mは0≦m≦15の整数、hは0≦h≦500の整数であり、nは1≦n≦5の正数である。)
(b)下記一般式(5)で表されるフッ素変性環状シリコーン
IPC (4件):
A61K7/00
, A61K7/021
, A61K7/025
, A61K7/032
FI (5件):
A61K7/00 J
, A61K7/00 C
, A61K7/021
, A61K7/025
, A61K7/032
Fターム (42件):
4C083AA112
, 4C083AA121
, 4C083AA122
, 4C083AB172
, 4C083AB232
, 4C083AB242
, 4C083AB362
, 4C083AB432
, 4C083AB442
, 4C083AC011
, 4C083AC012
, 4C083AC021
, 4C083AC022
, 4C083AC122
, 4C083AC352
, 4C083AC422
, 4C083AC442
, 4C083AC792
, 4C083AC842
, 4C083AC852
, 4C083AC932
, 4C083AD042
, 4C083AD051
, 4C083AD052
, 4C083AD072
, 4C083AD092
, 4C083AD161
, 4C083AD162
, 4C083AD171
, 4C083AD172
, 4C083AD432
, 4C083AD512
, 4C083AD662
, 4C083CC01
, 4C083CC12
, 4C083CC13
, 4C083CC14
, 4C083DD21
, 4C083DD30
, 4C083EE03
, 4C083EE06
, 4C083EE11
引用特許:
審査官引用 (8件)
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新規シリコーン化合物及びそれを含有してなる化粧料
公報種別:公開公報
出願番号:特願平11-216619
出願人:信越化学工業株式会社
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化粧料
公報種別:公開公報
出願番号:特願2000-401005
出願人:株式会社コーセー
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化粧料
公報種別:公開公報
出願番号:特願平9-031081
出願人:信越化学工業株式会社
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油性固形化粧料
公報種別:公開公報
出願番号:特願2000-355657
出願人:株式会社コーセー
-
メイクアップ化粧料
公報種別:公開公報
出願番号:特願平9-289179
出願人:株式会社コーセー
-
油性固型仕上げ化粧料
公報種別:公開公報
出願番号:特願平9-289178
出願人:株式会社コーセー
-
油性固形化粧料
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-301440
出願人:花王株式会社
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固形化粧料
公報種別:公開公報
出願番号:特願平8-069359
出願人:株式会社資生堂
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