特許

J-GLOBAL ID：200903033040211676

レジスト塗布装置及びレジスト塗布方法

発明者： 細川 和行
出願人/特許権者： 富士通ディスプレイテクノロジーズ株式会社
代理人 (1件)： 横山 淳一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-278305
公開番号（公開出願番号）：特開2003-086499
出願日： 2001年09月13日
公開日（公表日）： 2003年03月20日
要約：

【要約】【課題】 基板上に塗布したレジスト膜に生じた塗布ムラを解消乃至低減させることができるレジスト塗布装置・レジスト塗布方法を提供する。【解決手段】 外周面に液状のレジストを付着して回転する塗布ローラ12を備えたレジスト塗布部10と、基板反転部20と、回転自在で基板1より幅が狭く且つ外周面が一定の温度に保たれる加温ローラ31を備えた局所加温部30と、を有するレジスト塗布装置とする。レジスト塗布部10で水平移動する基板1の下面に塗布ローラ12を接触させて基板1の下面にレジスト膜3を形成し、この基板1を基板反転部20で上下反転し、更に局所加温部30で基板1下面に加温ローラ31を接触転動させて、上面のレジスト膜3を局所的に加温する。局所的加温によりその部分のレジスト膜厚のムラが解消乃至低減する。

請求項（抜粋）：

回転する塗布ローラを備え、液状のレジストを該塗布ローラの外周面から水平移動する基板の一表面に転写して該基板の表面にレジスト膜を形成するレジスト塗布部と、加温手段を備え、該レジスト膜を局所的に加温する局所加温部と、を有することを特徴とするレジスト塗布装置。

IPC (6件)：

H01L 21/027 ,  B05C 1/02 102 ,  B05C 9/14 ,  B05D 1/28 ,  B05D 3/02 ,  G03F 7/16 501

FI (6件)：

B05C 1/02 102 ,  B05C 9/14 ,  B05D 1/28 ,  B05D 3/02 B ,  G03F 7/16 501 ,  H01L 21/30 564 C

Fターム (32件)：

2H025AB13 ,  2H025AB17 ,  2H025EA04 ,  4D075AC27 ,  4D075AC28 ,  4D075AC93 ,  4D075AC96 ,  4D075BB23Z ,  4D075CA48 ,  4D075DA06 ,  4D075DB13 ,  4D075DB14 ,  4D075DC24 ,  4D075EA45 ,  4F040AA02 ,  4F040AA12 ,  4F040AA14 ,  4F040AB06 ,  4F040BA12 ,  4F040BA16 ,  4F040DB12 ,  4F042AA02 ,  4F042AA06 ,  4F042BA08 ,  4F042BA19 ,  4F042DC01 ,  4F042DD47 ,  4F042DF19 ,  4F042DF28 ,  4F042DF32 ,  5F046JA19 ,  5F046JA24