特許

J-GLOBAL ID：200903033053192034

2,4-ジアミノ-S-トリアジニル基含有重合体及びネガ型感放射線性レジスト組成物

発明者： 降▲旗▼ 智欣 ,  山田 素行
出願人/特許権者： 信越化学工業株式会社
代理人 (1件)： 小島 隆司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-209075
公開番号（公開出願番号）：特開平8-202037
出願日： 1995年07月25日
公開日（公表日）： 1996年08月09日
要約：

【要約】 (修正有)【解決手段】 式(1a)及び(1b)で示されるユニットからなり、重量平均分子量が3000〜50000である2,4-ジアミノ-S-トリアジニル基含有重合体。〔(但し、式中Rは水素原子又はメチル基であり、R1は式(2)で示される2,4-ジアミノ-S-トリアジニル基である。)(但し、式中R2,R3,R4,R5のうち少なくとも1つは式(3)で示されるアルコキシメチル基であり、他は水素原子である。) -CH2OR6 (3)(但し、式中R6は炭素数1〜4のアルキル基である。)〕【効果】 レジスト組成物のベースポリマーとして有用であり、この重合体を配合したネガ型感放射線性レジスト組成物は、解像度及び現像特性が高く、しかも貯蔵安定性が良いもので、LSI用レジスト材料として極めて有用である。

請求項（抜粋）：

下記構造式(1a)で示されるユニット99〜50モル%と下記構造式(1b)で示されるユニット1〜50モル%とからなり、重量平均分子量が3000〜50000であることを特徴とする2,4-ジアミノ-S-トリアジニル基含有重合体。【化1】〔(但し、式中Rは水素原子又はメチル基であり、R1は下記構造式(2)で示される2,4-ジアミノ-S-トリアジニル基である。)【化2】(但し、式中R2,R3,R4,R5のうち少なくとも1つは下記構造式(3)で示されるアルコキシメチル基であり、他は水素原子である。) -CH2OR6 (3)(但し、式中R6は炭素数1〜4のアルキル基である。)〕

IPC (4件)：

G03F 7/038 505 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/004 531 ,  H01L 21/027