特許
J-GLOBAL ID:200903033068719691

新規ポリマー・パターンの作成法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 石田 敬 (外4名)
公報種別:再公表公報
出願番号(国際出願番号):JP2001004231
公開番号(公開出願番号):WO2001-090225
出願日: 2001年05月21日
公開日(公表日): 2001年11月29日
要約:
【要約】本発明は、粒子移送手段により、担体粒子をモノマー付加反応槽に特定の順番に従って浸漬することにより、表面に特定配列のポリマーが結合した粒子を得、これを基板上に規則的に配列することにより、コンビナトリアルなポリマーパターンを得る方法に関する。本発明の方法は、モノマー毎に設けられた複数の反応槽と、これらの間の担体粒子の移動を制御する装置、および粒子を基板上に配列する装置を用いて実施される。
請求項(抜粋):
複数の種類のモノマーをいろいろな順列で合成した多種類のポリマーを基板上に特定のパターンで固定するコンビナトリアルなポリマーパターン作成法であって、以下のステップ: (1)それぞれのモノマーを入れた反応槽、上記反応槽の間の粒子搬送制御装置、上記粒子を基板上に配列する装置を用意し、 (2)担体として用いる粒子の移動を上記粒子搬送装置により制御して一定の順序に従って反応槽に浸漬していくことにより上記担体粒子表面に一定の配列を持つポリマーを合成し、そして (3)ステップ(2)において得られた粒子を基板上に配列して、上記基板上に様々な配列を持つポリマーのパターンを形成する、を含む前記ポリマーパターン作成法。
IPC (4件):
C12N 15/09 ZCC ,  C08G 85/00 ,  G01N 33/53 ,  G01N 37/00 102
FI (5件):
C12N 15/00 ZCC F ,  C08G 85/00 ,  G01N 33/53 D ,  G01N 33/53 M ,  G01N 37/00 102

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