特許
J-GLOBAL ID：200903033090592735
有機EL装置の製造方法、有機EL装置、及び電子機器
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
上柳 雅誉
, 藤綱 英吉
, 須澤 修
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-000363
公開番号（公開出願番号）：特開2005-197027
出願日： 2004年01月05日
公開日（公表日）： 2005年07月21日
要約：
【課題】 有機EL層を形成するための機能性材料を含む液状体を基体上の所定位置に均一に塗布することができ、画素の輝度及び色度の均一性に優れた高画質の画像表示が可能な有機EL装置を製造する方法を提供する。【解決手段】 本発明に係る製造方法は、基板P上に、画素電極141と、該画素電極141の形成位置に対応して設けられた開口部111を有するバンク150と、前記画素電極141上に順次積層された有機EL層140と共通電極154とを備えた有機EL装置の製造方法であり、基板P上に前記開口部111を有するバンク150を形成する工程と、前記バンク150内部に前記画素電極141をパターン形成する工程と、前記バンク150及び画素電極141の表面を含む基板P上の領域に所定の撥液処理を施す工程と、前記バンク150の内側に有機EL層形成材料を含む液体材料を液滴吐出法により配する工程とを含む方法である。【選択図】 図9
請求項（抜粋）：
基体上に、第1電極と、該第1電極の形成位置に対応して設けられた開口部を有する隔壁部と、前記開口部の第1電極上に順次積層された有機EL層と第2電極とを備えた有機EL装置の製造方法であって、
基体上に前記開口部を有する隔壁部を形成する隔壁部形成工程と、
前記開口部の底部に前記第1電極をパターン形成する第1電極形成工程と、
前記隔壁部及び第1電極の表面を含む基体上の領域に所定の撥液処理を施し、撥液膜を形成し、前記開口部の内側に有機EL層形成材料を含む液体材料を液滴吐出法により配し有機EL層を形成する有機EL層形成工程と
を含むことを特徴とする有機EL装置の製造方法。
IPC (5件)：
H05B33/10
, H05B33/12
, H05B33/14
, H05B33/22
, H05B33/26
H05B33/10
, H05B33/12 B
, H05B33/14 A
, H05B33/22 Z
, H05B33/26 Z
3K007AB11
, 3K007AB17
, 3K007AB18
, 3K007BA06
, 3K007DB03
, 3K007EA00
, 3K007FA01
