特許
J-GLOBAL ID：200903033099672197
強化した干渉マッピングリソグラフィを使用するフューチャの最適化
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：
浅村 皓
, 浅村 肇
, 森 徹
, 吉田 裕
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-344913
公開番号（公開出願番号）：特開2005-141241
出願日： 2004年10月29日
公開日（公表日）： 2005年06月02日
要約：
【課題】光学システムを使用して、任意のマスクに対して基板の表面に形成すべきパターンの強度プロフィールを最適化する方法およびプログラム製品を提供する。【解決手段】ステップは、任意のマスクから改造可能なフューチャを数学的に表すことと、光学システムの特定の特徴を表す数式、固有関数を生成することと、フィルタリングによって数式、固有関数を変更することと、任意のマスクのフィルタリングした固有関数および数式に従い、干渉マップを生成することと、干渉マップに基づいて任意のマスクの補助フューチャを決定することとを含む。その結果、基板の表面の所望でない印刷を最小にすることができる。【選択図】図5
請求項（抜粋）：
光学システムを使用して任意のマスクに対して基板の表面に形成すべきパターンの強度プロフィールを最適化する方法で、
(a)任意のマスクの所望の印刷挙動を表すゴール機能を数学的に表すステップと、
(b)光学システムの特定の特徴を表す数式を生成するステップと、
(c)ステップ(b)の数式を変更するステップと、
(d)ステップ(c)およびステップ(a)の結果に従い干渉マップを生成するステップと、
(e)ステップ(d)の干渉マップに基づいて所与のマスクの補助フューチャを決定するステップとを含み、
ステップ(b)の数式の変更が、基板の表面の望ましくない印刷を最小にするものである方法。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (4件)：
2H095BA01
, 2H095BB02
, 2H095BB03
, 2H095BC24
