特許

J-GLOBAL ID：200903033102560559

重ね合わせ精度管理用パターンおよびこれを用いた重ね合わせ精度管理方法

発明者： 染矢 篤志
出願人/特許権者： ソニー株式会社
代理人 (1件)： 小池 晃 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-059619
公開番号（公開出願番号）：特開平9-251945
出願日： 1996年03月15日
公開日（公表日）： 1997年09月22日
要約：

【要約】【課題】 重ね合わせ精度の管理において、真の合わせずれ量に極めて近い測定値を与え得る測定パラメータを短時間に設定する。【解決手段】 重ね合わせ精度管理用パターンに予め既知量の変位を設定しておき、重ね合わせ精度測定装置を用いてこのパターンを測定した際に、上記の変位が最も正しく測定される場合の測定パラメータを選択し、これを以後の測定のための設定値とする。かかるパターンは、レンズ収差やステージ姿勢誤差等の影響が排除できる程度の微小距離d10/20 を置いて近接配置された2個の単位パターン10,20からなり、単位パターン10では下層側パターン1aと上層側パターン2aの合わせずれが無いが、単位パターン20では既知の合わせずれ量S1を設定する。両単位パターン10,20の合わせずれ量の測定値の差がS1 に最も近くなる場合の測定パラメータを選択する。

請求項（抜粋）：

下層側パターンとこれに幾何学的関連性を有する上層側パターンとの相対位置が正位置から既知量だけ変位されてなる重ね合わせ精度管理用パターン。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521

FI (6件)：

H01L 21/30 522 Z ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 523 ,  H01L 21/30 525 B ,  H01L 21/30 525 P ,  H01L 21/30 525 W