特許

J-GLOBAL ID：200903033114458016

リソグラフィー用マスクブランク及びリソグラフィー用マスク

発明者： 坂井 裕之 ,  丹治 宏彰 ,  山口 洋一 ,  川副 博司
出願人/特許権者： ホーヤ株式会社
代理人 (1件)： 中村 静男 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-048123
公開番号（公開出願番号）：特開平7-261375
出願日： 1994年03月18日
公開日（公表日）： 1995年10月13日
要約：

【要約】【目的】 電子線による描画や検査の際のチャージアップを防止し得る帯電防止層を有するリソグラフィー用マスクブランクを提供する。【構成】 亜鉛、ガリウムを含むスピネル型結晶またはカドミウム、アンチモンを含む鉛アンチモネート型結晶を含み、かつキャリアを有する導電性複合酸化物からなる帯電防止層を有することを特徴とするリソグラフィー用パターニングマスクブランク。

請求項（抜粋）：

亜鉛、ガリウムを含むスピネル型結晶またはカドミウム、アンチモンを含む鉛アンチモネート型結晶を含み、かつキャリアを有する導電性複合酸化物からなる帯電防止層を有することを特徴とするリソグラフィー用パターニングマスクブランク。

IPC (4件)：

G03F 1/14 ,  G03F 1/08 ,  G03F 7/11 503 ,  H01L 21/027

FI (3件)：

H01L 21/30 502 P ,  H01L 21/30 528 ,  H01L 21/30 574