特許

J-GLOBAL ID：200903033120463749

液晶表示装置およびその製造方法

発明者： 中林 亮 ,  青木 由佳 ,  金子 寿輝
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所
代理人 (1件)： 秋田 収喜
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-047628
公開番号（公開出願番号）：特開平10-239709
出願日： 1997年03月03日
公開日（公表日）： 1998年09月11日
要約：

【要約】【課題】 電気抵抗の低減およびエッチング加工の容易性を確保できるとともに、膜応力による断線等を防止する。【解決手段】 基板上に形成されたCrとMoとの合金の導電体層を備え、そのMoはCrに対して30〜55wt%含有され、導電体層には、その表面に酸化処理を施すことによって、酸化膜が形成され、フォトリソグラフィ技術による選択エッチングによりパターン形成されている液晶表示装置。

請求項（抜粋）：

液晶を介して互いに対向配置される、少なくとも一方が透明な一対の基板のうち、一方の基板の液晶側の面に、x方向に延在されかつy方向に並設されるゲートラインと、このゲートラインと絶縁膜を介してy方向に延在されかつx方向に並設されるデータラインとが形成され、ゲートラインとデータラインとで囲まれる画素領域のそれぞれに、ゲートラインを介して供給される走査信号によってオンされる薄膜トランジスタと、このオンされた薄膜トランジスタを介してデータラインから供給される映像信号が印加される画素電極を備える液晶表示装置において、前記ゲートラインあるいはデータラインは、CrとMoとの合金層を導体層とし、該導体層には、その表面に酸化膜が形成されており、かつMoはCrに対して20〜55wt%含有されていることを特徴とする液晶表示装置。

IPC (2件)：

G02F 1/136 500 ,  H01L 29/786

FI (3件)：

G02F 1/136 500 ,  H01L 29/78 612 C ,  H01L 29/78 617 M