特許
J-GLOBAL ID：200903033161023079
FIB/SEM複合装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-081200
公開番号（公開出願番号）：特開平9-274883
出願日： 1996年04月03日
公開日（公表日）： 1997年10月21日
要約：
【要約】【課題】チャージアップを防止して高精度にFIB加工した試料断面をSEM観察する。【解決手段】電子を加速及び集束して試料4上を走査し、試料4から発生する二次電子及び反射電子により観察像を形成するSEM装置2に、電極にビームを照査する手段を設け、通常のSEMモードと電極照射による二次電子発生モードが選択的に利用できるSEM装置部と、イオン11を加速および集束させて試料4上を走査し、試料4から放出される二次粒子信号により観察像を形成する走査イオン顕微鏡機能と、試料4の限定された領域に選択的に集束したイオンを照射し、試料4を加工する機能とを有したFIB装置部1と、試料4を真空中に保持する試料室部3からなり、FIB1とSEM2それぞれのビーム軸が同一試料上のほぼ同一位置で交差するように設置する。
請求項（抜粋）：
電子を加速及び集束して試料上を走査し、上記試料から発生する二次電子及び反射電子により観察像を形成するSEM装置に、電極にビームを照査する手段を設け、通常のSEMモードと電極照射による二次電子発生モードが選択的に利用できるようにしたSEM装置部と、イオンを加速および集束させて上記試料上を走査し、上記試料から放出される二次粒子信号により観察像を形成する走査イオン顕微鏡機能と、上記試料の限定された領域に選択的に集束したイオンを照射し、上記試料を加工する機能とを有したFIB装置部と、上記試料を真空中に保持する試料室部からなり、上記FIBと上記SEMそれぞれのビーム軸が同一試料上のほぼ同一位置に交差するように設置されたことを特徴とするFIB/SEM複合装置。
IPC (3件)：
H01J 37/305
, H01J 37/256
, H01L 21/3065
H01J 37/305 A
, H01J 37/256
, H01L 21/302 D
