特許

J-GLOBAL ID：200903033167988769

ポジ型フォトレジスト組成物

発明者： 加藤 勝 ,  大房 一樹 ,  田口 裕務 ,  中川 修太
出願人/特許権者： 東亞合成株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-060278
公開番号（公開出願番号）：特開平7-244376
出願日： 1994年03月04日
公開日（公表日）： 1995年09月19日
要約：

【要約】【構成】アルカリ可溶性樹脂とキノンジアジド基含有化合物を有機溶媒に溶解してなるポジ型フォトレジスト組成物において、有機溶媒がジエチルカーボネートと乳酸エチルの混合溶媒であることを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物【効果】本発明のポジ型フォトレジスト組成物は、塗布性、保存安定性および安全性に優れたもので、特に液晶表示素子製造に極めて有用である。

請求項（抜粋）：

アルカリ可溶性樹脂とキノンジアジド基含有化合物を有機溶媒に溶解してなるポジ型フォトレジスト組成物において、有機溶媒がジエチルカーボネートと乳酸エチルの混合溶媒であることを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物

IPC (2件)：

G03F 7/022 ,  H01L 21/027