特許

J-GLOBAL ID：200903033170941935

偏光板の製造方法

発明者： 市村 國宏 ,  石月 紀男
出願人/特許権者： 日本化薬株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-183241
公開番号（公開出願番号）：特開平11-014830
出願日： 1997年06月25日
公開日（公表日）： 1999年01月22日
要約：

【要約】【課題】光活性分子層を使用した偏光板の製造方法において、光活性分子層が接触等の外的要因によって配列が乱れてしまうことを防止した偏光板の製造方法の開発。【解決手段】基板上の、光二量化型の感光性基を側鎖に有する光活性高分子層に、紫外線偏光を照射し、ついで該層の上に二色性分子を含む層を設けることを特徴とする偏光板の製造方法。

請求項（抜粋）：

基板上の、光二量化型の感光性基を側鎖に有する高分子層に、紫外線偏光を照射し、ついで該層の上に二色性分子を含む層を設けることを特徴とする偏光板の製造方法。

IPC (2件)：

G02B 5/30 ,  G02B 1/04

FI (2件)：

G02B 5/30 ,  G02B 1/04

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 液晶表示素子
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-111063   出願人：日本化薬株式会社