超高真空ガスケットおよびそれによる真空容器

発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-299979
公開番号（公開出願番号）：特開平8-193659
出願日： 1991年09月02日
公開日（公表日）： 1996年07月30日
要約：

【要約】【目的】本発明は、弱い圧接力においてもフランジとガスケットの圧接面(接触面)から大気のリークのない(無視できる)、かつ、ガスケットの内部を大気からの水蒸気成分等の透過のない(無視できる)超高真空のためのガスケットの提供にある。また、それを使用したフランジとガスケットの圧接面(接触面)およびガスケット内部の大気からの水蒸気成分等の侵入のない(無視できる)超高真空のための真空容器の提供にある。【構成】柔軟な核材のオーリングの表面のフランジとの接触面(図1、11の面)のみ核材をむき出しにし、他の大気に接触する面と真空に接触する面(図1、13の面)に大気成分を透過しない薄膜をメッキまたは蒸着により被覆した構成の超高真空ガスケット、および真空容器のフランジによる接続(圧接)にこの超高真空ガスケットを使用したことを特徴とする真空容器。

請求項（抜粋）：

柔軟(硬度120以下)な核材(天然ゴム、バイトン(ふっ素ゴム)、テフロン、プラスチック、等)を材質とするオーリングの表面のフランジとの接触面(図1、11の面)のみ核材をむき出しにし、他の大気に接触する面と真空に接触する面(図1、13の面)に室温において蒸気圧が10のマイナス6乗[Pa]以下の物質(アルミニューム、金、銀、スズ、鉄、銅、ガラス、チタン、モリブデン、ステンレス、ニッケル、タングステン等)の薄膜(図1、13)をメッキ(電解メッキ、無電解メッキ等)または蒸着(熱蒸着、スパッタ蒸着、イオンプレーティング等)により被覆したことを特徴とする超高真空ガスケット

IPC (4件)：

F16J 15/12 , C09K 3/10 , F16J 12/00 , F16J 15/10

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