特許

J-GLOBAL ID：200903033196564293

縦型熱処理装置

発明者： 菊地 寿 ,  小原 一輝
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社
代理人 (1件)： 金坂 憲幸
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-140730
公開番号（公開出願番号）：特開平9-306857
出願日： 1996年05月10日
公開日（公表日）： 1997年11月28日
要約：

【要約】【課題】 処理ガスによる蓋体や回転テーブル等の腐食を防止して耐久性の向上が図れる縦型熱処理装置を提供する。【解決手段】 被処理基板Wが装填されたボート2が下方から装入されて所定の処理ガスおよび高温下で被処理基板Wに熱処理を施す縦型の反応管1と、この反応管1の開口端を開閉する蓋体12と、この蓋体12に設けられ上記ボート2を回転させる回転テーブル14とを備え、上記蓋体12および回転テーブル14を金属以外の耐熱耐食性材により形成すると共に、上記回転テーブル14の回転軸部15が貫通する蓋体12の軸穴16内下方にシール部材17を設けている。

請求項（抜粋）：

被処理基板が装填されたボートが下方から装入されて所定の処理ガスおよび高温下で被処理基板に熱処理を施す縦型の反応管と、この反応管の開口端を開閉する蓋体と、この蓋体に設けられ上記ボートを回転させる回転テーブルとを備え、上記蓋体および回転テーブルを金属以外の耐熱耐食性材により形成すると共に、上記回転テーブルの回転軸部が貫通する蓋体の軸穴内下方にシール部材を設けたことを特徴とする縦型熱処理装置。

IPC (4件)：

H01L 21/22 511 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/31 ,  H01L 21/324

FI (4件)：

H01L 21/22 511 Q ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/31 E ,  H01L 21/324 D