ポジ型レジスト組成物

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：曾我道照 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-098796
公開番号（公開出願番号）：特開2000-292917
出願日： 1999年04月06日
公開日（公表日）： 2000年10月20日
要約：

【要約】【課題】感度が優れるとともにレジストパターンの矩形性に優れるArF用のポジ型レジスト組成物の提供。【解決手段】 (A)酸解離性基を有する基材樹脂および(B)酸発生剤を含み、(B)成分が例えば(b-1)トリフェニルスルホニウムトリフルオロメタンスルホネートと(b-2)下記式(I)のスルホニウム塩との混合物であり、(b-2)に対して(b-1)を5〜25重量%の範囲で混合した組成物。【化1】

請求項（抜粋）：

(A)カルボキシル基の水素原子がアルカリ溶解抑制能を有する酸解離性基で置換され、露光により発生した酸の作用により該酸解離性基が解離しアルカリ水溶液への溶解度が増大する重合体および(B)放射線の照射により酸を発生する化合物を含有してなるポジ型レジスト組成物において、(B)成分が(b-1)置換または未置換のベンゼン核を有するトリフェニルスルホニウム塩と(b-2)下記一般式(I)で表されるスルホニウム塩との混合物であって、(b-2)に対して(b-1)を5重量%〜25重量%の範囲で混合したことを特徴とするポジ型レジスト組成物。【化1】(式中、Arはアリール基を表し、X-は炭素数1〜15のフルオロアルキルスルホン酸イオンを表す)

IPC (3件)：

G03F 7/004 503 , C09D145/00 , C09D201/00

FI (3件)：

G03F 7/004 503 A , C09D145/00 , C09D201/00

Fターム (24件)：

2H025AA01 , 2H025AA03 , 2H025AC04 , 2H025AC08 , 2H025AD03 , 2H025BE07 , 2H025BG00 , 2H025CB08 , 2H025CB10 , 2H025CB41 , 2H025CC20 , 4J038CG081 , 4J038CM011 , 4J038CM021 , 4J038GA02 , 4J038JA35 , 4J038JA55 , 4J038JB01 , 4J038JC17 , 4J038JC22 , 4J038JC29 , 4J038NA18 , 4J038PA17 , 4J038PB09

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