特許
J-GLOBAL ID：200903033219355255
微細パターン形成方法及びマスター基板及びそれらを用いて形成されたカラーフィルター
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
滝本 智之 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-290981
公開番号（公開出願番号）：特開平9-133915
出願日： 1995年11月09日
公開日（公表日）： 1997年05月20日
要約：
【要約】【課題】 本発明は、高精細,高密度の微細パターンを安価で信頼性良く量産性に優れた微細パターン形成方法及びマスター基板及びそれらを用いて形成されたカラーフィルターを提供することを目的とする。【解決手段】 所定形状にパターニングされた電極層3を備えたマスター基板1を用いて電極層3上に電着法にて電着樹脂層からなる微細パターン6を形成する微細パターン形成工程と、電着樹脂層に水分を含有させる含水工程と、マスター基板1上の含水した電着樹脂層を被転写基板7上に形成された粘着層10に密着させてマスター基板1から剥離させ被転写基板7に転写する剥離転写工程と、を備え、マスター基板に形成した高精細、高密度の微細パターンを容易に被転写基板に剥離転写でき、繰り返し微細パターンを形成するマスター基板を極めて耐久性よく使用でき量産性を著しく向上させるように構成したものである。
請求項（抜粋）：
所定形状にパターニングされた電極層を備えたマスター基板を用いて前記電極層上に電着法にて電着樹脂層からなる微細パターンを形成する微細パターン形成工程と、前記電着樹脂層に水分を含有させる含水工程と、前記マスター基板上の含水した前記電着樹脂層を被転写基板上に形成された粘着層又は接着層に密着させて前記マスター基板から剥離させ前記被転写基板に転写する剥離転写工程と、を備えたことを特徴とする微細パターン形成方法。
IPC (4件)：
G02F 1/1335 505
, C23F 1/00 102
, C25D 13/00 310
, G02B 5/20 101
G02F 1/1335 505
, C23F 1/00 102
, C25D 13/00 310
, G02B 5/20 101
審査官引用 (3件)
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カラーフィルターの製造方法
公報種別：公開公報
出願番号：特願平4-114956
出願人：大日本印刷株式会社
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特開昭62-194202
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特開昭57-060888
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