感光性樹脂組成物及びレジスト像の製造法

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出願人/特許権者： ,
代理人 (1件)：若林邦彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-308997
公開番号（公開出願番号）：特開平9-146278
出願日： 1995年11月28日
公開日（公表日）： 1997年06月06日
要約：

【要約】【課題】有害性が低く、溶媒のレジスト材料に対する十分な溶解性、溶媒の適当な蒸発速度、溶媒の適当な表面張力、溶媒の適当な粘度などを満足した溶媒を用いた感光性樹脂組成物及び解像度のよいレジストパターンを形成することができるレジスト像の製造法を提供する。【解決手段】 (a)アルカリ水溶液可溶性樹脂、(b)活性化学線照射により酸を生じる化合物、(c)酸触媒反応によりアルカリ水溶液に対し溶解性を変化させる反応性を有する媒体及び(d)溶媒を含む化学増幅系感光性樹脂組成物であって、(d)溶媒が炭素数が5〜9の化1〔一般式(1)〕【化1】(一般式(1)で、Rは炭素数3〜7のアルキル基、アルケニル基、アルキニル基又はフェニル基を表す)で示される酢酸エステルである感光性樹脂組成物及びこの感光性樹脂組成物の塗膜を、活性化学線で照射し、ついで現像することを特徴とするレジスト像の製造法。

請求項（抜粋）：

(a)アルカリ水溶液可溶性樹脂、(b)活性化学線照射により酸を生じる化合物、(c)酸触媒反応によりアルカリ水溶液に対し溶解性を変化させる反応性を有する媒体及び(d)溶媒を含む化学増幅系感光性樹脂組成物であって、(d)溶媒が炭素数が5〜9の化1〔一般式(1)〕【化1】(一般式(1)で、Rは炭素数3〜7のアルキル基、アルケニル基、アルキニル基又はフェニル基を表す)で示される酢酸エステルである感光性樹脂組成物。

IPC (3件)：

G03F 7/039 501 , G03F 7/004 503 , H01L 21/027

FI (3件)：

G03F 7/039 501 , G03F 7/004 503 , H01L 21/30 502 R

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