液晶配向処理方法及び液晶表示素子

発明者： , ,
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-236812
公開番号（公開出願番号）：特開平8-101393
出願日： 1994年09月30日
公開日（公表日）： 1996年04月16日
要約：

【要約】【目的】配向特性の優れたポリイミド膜をラビング処理することなく、簡便で生産性に優れた工業的に有用な方法で配向処理する方法およびそれを用いた液晶表示素子を提供することにある。【構成】一般式〔I〕【化4】(式中、Rは2価の有機基を表す。)の繰り返し単位で表されるポリイミド膜を基板上に形成し、マスクを介して照射強度の空間分布を有する紫外線を照射し、現像液、リンス液に浸漬して、ポリイミド膜表面に周期的な凹凸を形成させ、この凹凸面上に液晶を配向させることを特徴とする液晶配向処理方法に関し、また、電極が形成されている2枚の電極付き基板に液晶を挟持してなる液晶表示素子において、少なくとも一方の基板に前記一般式[I]の繰り返し単位で表されるポリイミド膜を形成し、前記方法で該ポリイミド膜表面に周期的な凹凸を形成させ、この凹凸面上に液晶を配向させたことを特徴とする液晶表示素子に関する。

請求項（抜粋）：

一般式〔I〕【化1】(式中、Rは2価の有機基を表す。)の繰り返し単位で表されるポリイミド膜を基板上に形成し、マスクを介して照射強度の空間分布を有する紫外線を照射し、現像液、リンス液に浸漬して、ポリイミド膜表面に周期的な凹凸を形成させ、この凹凸面上に液晶を配向させることを特徴とする液晶配向処理方法。

引用特許：

審査官引用 (5件)

特開昭61-047932
特開平2-135449
液晶表示素子および液晶配向膜の製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-245704 出願人：株式会社東芝

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