特許

J-GLOBAL ID：200903033236509045

付着力のあるダイヤモンド薄膜の蒸着方法

発明者： マイクル ジェイ.ウルクジンスキー ,  ドニー ケイ.レインハード ,  ジェス アスムッセン
出願人/特許権者： ミシガン ステイト ユニバーシティー
代理人 (1件)： 浅村 皓 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-212635
公開番号（公開出願番号）：特開平10-095694
出願日： 1996年08月12日
公開日（公表日）： 1998年04月14日
要約：

【要約】【課題】 基体上に付着力があり、透明で、特に集積回路があるシリコーン・ウエハーに有用な多結晶性ダイヤモンド薄膜を蒸着させる方法を提供する。【解決手段】 基体、特にシリコン、またはガラス材の基体上に水素とメタン、必要あれば二酸化炭素の混合ガスのプラズマを基体温度が約350〜600°Cで圧力が1〜15Torrで化学的蒸着(CVD)で上記多結晶性ダイヤモンド薄膜を形成させる。基体はCVD前にダイヤモンド粒子を付着させたもの、またはダイヤモンド粒子で研磨したものを用いる。

請求項（抜粋）：

プラズマを用いた化学的蒸着により基体上に付着力のあるダイヤモンド薄膜を付着させる方法において、(a)ダイヤモンド粒子で研磨した基体、または大きさが約0.05〜1μmのダイヤモンド粒子を均一に被覆した基体をダイヤモンド薄膜蒸着用プラズマの近くに配置し、(b)600°C以下の基体温度で主として水素とメタンから成り、必要あれば二酸化炭素を含んだガス混合物を含有するプラズマを1〜15Torrの圧力下で発生させて、基体上に基体に対して付着力のあるダイヤモンド薄膜を蒸着させる改良方法。

IPC (4件)：

C30B 29/04 ,  C23C 16/26 ,  C23C 16/50 ,  H01L 21/205

FI (4件)：

C30B 29/04 B ,  C23C 16/26 ,  C23C 16/50 ,  H01L 21/205