特許

J-GLOBAL ID：200903033240537290

アルカリ蝕刻性レジスト乾燥フィルムホトレジスト

発明者： リチャード・トーマス・メイズ ,  ルドルフ・リロイ・ポール
出願人/特許権者： ハーキュリーズ・インコーポレーテッド
代理人 (1件)： 湯浅 恭三 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-231167
公開番号（公開出願番号）：特開平6-138656
出願日： 1992年08月31日
公開日（公表日）： 1994年05月20日
要約：

【要約】【目的】本発明の目的は、硬化されたホトレジストが強靭で、露光時間および現像時間が短く、物理的性質および剥離性に優れ、かつ安価に製造することのできるアルカリ蝕刻性レジスト乾燥フィルムホトレジストを提供することである。【構成】カルボキシル基含有フィルム形成性高分子結合剤を含有する水性現像可能な乾燥フィルムホトレジストであって、前記結合剤が、(a) 式、H2C=CRCOO[(CnH2n)X(CpH2p)]mR'[式中、Rは、水素またはメチルを表し、R'は、飽和されたC5〜C12の橋状アルキルで、少なくとも一つのC1〜C4アルキルまたはハロゲンにより任意に置換されたアルキルを表し、Xは、酸素またはイオウを表し、nは、2〜4であり、pは、0〜4であり、mは、0〜2である。]で表される少なくとも一つのモノマーと、(b) 炭素原子数3〜15個を有する少なくとも一つのC3〜C15のα,β不飽和カルボキシル基含有または酸無水物基含有モノマーとを含有する混合物の重合によって得られることを特徴とするホトレジスト。

請求項（抜粋）：

カルボキシル基含有フィルム形成性高分子結合剤を含有する水性現像可能な乾燥フィルムホトレジストであって、前記結合剤が、(a) 式、H2C=CRCOO[(CnH2n)X(CpH2p)]mR'[式中、Rは、水素またはメチルを表し、R'は、飽和されたC5〜C12の橋状アルキルで、少なくとも一つのC1〜C4アルキルまたはハロゲンにより任意に置換されたアルキルを表し、Xは、酸素またはイオウをあらわし、nは、2〜4であり、pは、0〜4であり、mは、0〜2である。]で表される少なくとも一つのモノマーと、(b) 炭素原子数3〜15個を有する少なくとも一つのC3〜C15のα,β不飽和カルボキシル基含有または酸無水物基含有モノマーとを含有する混合物の重合によって得られることを特徴とするホトレジスト。

IPC (11件)：

G03F 7/033 ,  G03F 7/004 502 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/004 512 ,  G03F 7/027 502 ,  G03F 7/031 ,  G03F 7/038 ,  G03F 7/26 ,  H01L 21/027 ,  H05K 3/00 ,  H05K 3/18