特許

J-GLOBAL ID：200903033250427990

気相成長用ウエハ加熱装置

発明者： 小林 毅彦 ,  中川 義教 ,  三谷 慎一
出願人/特許権者： 東芝機械株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-258458
公開番号（公開出願番号）：特開平5-070287
出願日： 1991年09月10日
公開日（公表日）： 1993年03月23日
要約：

【要約】【目的】 大径の1枚のウェハを均一な温度分布に加熱可能にする。【構成】 ヒータ16の上方にこれとほぼ平行に間隔を置いてカーボン製の均熱板19を配置し、均熱板19をヒータ16により輻射加熱する。均熱板19は輻射加熱によりヒータ16の温度分布(ヒータパターン)よりも均一な温度分布に加熱される。均熱板19の上方には、ほぼ平行にリング状のサセプタ29が回転可能に配置され、このサセプタ29上にウェハWが載置される。ウェハWは、均熱板19と3mm以上の間隔を有して回転し、均熱板19によって輻射加熱され、より一層均一な温度分布に加熱される。

請求項（抜粋）：

カーボン製の均熱板と、同均熱板の裏面側に間隔を置き該均熱板とほぼ平行に配置されたヒータと、前記均熱板の表面側に該均熱板とほぼ平行にかつ回転可能に配置されたリング状のサセプタとからなり、前記サセプタはウェハの外周部を係合保持すると共に前記均熱板の表面とウェハの裏面との間に3mm以上の間隔を与えるように配置されていることを特徴とする気相成長用ウェハ加熱装置。

IPC (2件)：

C30B 25/10 ,  H01L 21/205

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開平1-230226
  
• 特開昭61-271818
  
• 特開平4-211117