特許

J-GLOBAL ID：200903033253354764

化学除染方法及びその装置

発明者： 長瀬 誠 ,  植竹 直人 ,  石田 一成 ,  中村 文人 ,  穴沢 和美
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所
代理人 (1件)： 作田 康夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-205753
公開番号（公開出願番号）：特開2001-033586
出願日： 1999年07月21日
公開日（公表日）： 2001年02月09日
要約：

【要約】【課題】小型金属部材の表面に付着した放射性核種を短時間に効率よく除去すると共に二次廃棄物量を低減する。【解決手段】金属部材をカチオン樹脂塔で1時間に除染液の6倍量以上連続浄化している還元除染槽に浸せき後、別の純水槽に移送して洗浄する。

請求項（抜粋）：

放射性核種に汚染された金属部材表面から放射性核種を化学的に除去する化学除染法において、除染装置内の除染液を1時間当たりその体積の6倍以上カチオン樹脂塔に循環通水している還元除染槽内の還元除染液に金属部材を浸せきした後、該金属部材を前記還元除染槽から混床樹脂塔に循環通水して連続浄化をしている純水槽に移して表面に残留している除染剤を除去することを特徴とする化学除染方法。

IPC (2件)：

G21F 9/28 525 ,  G21F 9/28 521

FI (2件)：

G21F 9/28 525 D ,  G21F 9/28 521 C