特許
J-GLOBAL ID:200903033253754444
顕微鏡の光源光軸調整方法および装置
発明者:
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出願人/特許権者:
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代理人 (1件):
杉村 興作
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-149395
公開番号(公開出願番号):特開2003-344774
出願日: 2002年05月23日
公開日(公表日): 2003年12月03日
要約:
【要約】【課題】 顕微鏡の光源光軸を簡単に、しかも定量的に正確に調整できる顕微鏡の光源光軸調整方法および装置を提供する。【解決手段】 蛍光分子を均一に分散させた調整用試料9を用い、該調整用試料9に、光軸の中央に極大を有する強度分布の第1の光と極大を有する強度分布の第2の光とを照射したときに得られる蛍光強度と、極大を有する強度分布の第1の光と極小を有する強度分布の第2の光とを照射したときに得られる蛍光強度との差を検出しながら、その差が最大となるように第1の光を発する第1の光源1と第2の光を発する第2の光源2との光軸を設定する。
請求項(抜粋):
少なくとも基底状態を含む3つの電子状態を有する分子で染色された試料の上記分子を基底状態から第1の励起状態へ遷移させる第1の光を発生する第1の光源と、上記分子を上記第1の励起状態から、よりエネルギー準位の高い第2の励起状態へ遷移させる第2の光を発生する第2の光源と、上記第1の光および上記第2の光の照射領域を少なくとも一部分重ね合わせて上記試料に照射する光学系と、上記試料からの発光を検出する検出手段と、を有する顕微鏡の光源光軸を調整するにあたり、上記試料として蛍光分子を均一に分散させた調整用試料を用いて、該調整用試料に、光軸の中央に極大を有する強度分布の第1の光と、極大を有する強度分布の第2の光とを上記光学系を介して照射して、該調整用試料からの蛍光強度を上記検出手段で検出する第1の工程と、上記調整用試料に、極大を有する強度分布の第1の光と、極小を有する強度分布の第2の光とを上記光学系を介して照射して、該調整用試料からの蛍光強度を上記検出手段で検出する第2の工程と、上記第1の工程で検出された蛍光強度と、上記第2の工程で検出された蛍光強度との差を検出する第3の工程と、上記第1の光源の光軸と上記第2の光源の光軸とを相対的に移動させながら、上記第1の工程から上記第3の工程を繰り返して、上記第3の工程で得られる蛍光強度の差が最大となる位置に、上記第1の光源および上記第2の光源の光軸を設定する第4の工程と、を含むことを特徴とする顕微鏡の光源光軸調整方法。
IPC (4件):
G02B 21/00
, G01N 21/64
, G02B 7/00
, G02B 21/06
FI (5件):
G02B 21/00
, G01N 21/64 E
, G01N 21/64 F
, G02B 7/00 D
, G02B 21/06
Fターム (28件):
2G043AA03
, 2G043DA01
, 2G043EA01
, 2G043FA01
, 2G043FA02
, 2G043FA06
, 2G043GA02
, 2G043GB01
, 2G043GB19
, 2G043HA01
, 2G043HA02
, 2G043HA06
, 2G043HA09
, 2G043KA02
, 2G043KA05
, 2G043KA09
, 2G043LA02
, 2H043AD08
, 2H043AD11
, 2H043AD21
, 2H052AA07
, 2H052AA09
, 2H052AC04
, 2H052AC14
, 2H052AC27
, 2H052AC30
, 2H052AC34
, 2H052AF02
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