特許

J-GLOBAL ID：200903033259049572

表面状態測定方法及び装置

発明者： 吉田 春雄
出願人/特許権者： 株式会社アドバンテスト
代理人 (1件)： 北野 好人 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-159418
公開番号（公開出願番号）：特開2002-350342
出願日： 2001年05月28日
公開日（公表日）： 2002年12月04日
要約：

【要約】【課題】 被測定基板の局所的な表面状態の高感度測定を簡単且つ低廉に実現し、被測定基板表面の有機汚染物質等の分布を測定しうる表面状態測定方法及び装置を提供する。【解決手段】 広帯域赤外光源14から被測定基板10に照射した赤外線を、機械的チョッパー20によってパルス化し、被測定基板10で反射される赤外線をパルス化のタイミングと同期して複数回検出し、検出結果の加算平均に基づいて被測定基板10の所定位置における表面状態を測定する。

請求項（抜粋）：

被測定基板の所定位置に赤外線を照射し、前記被測定基板の表面で反射される赤外線を検出し、検出した赤外線に基づいて前記被測定基板の表面の状態を測定する表面状態測定方法であって、赤外線をパルス化し、前記被測定基板から放出される赤外線をパルス化のタイミングと同期して複数回検出し、検出結果の加算平均に基づいて前記被測定基板の前記所定位置における表面状態を測定することを特徴とする表面状態測定方法。

IPC (4件)：

G01N 21/35 ,  G01N 21/27 ,  G01N 21/94 ,  H01L 21/66

FI (4件)：

G01N 21/35 Z ,  G01N 21/27 H ,  G01N 21/94 ,  H01L 21/66 L

Fターム (53件)：

2G051AA51 ,  2G051AA73 ,  2G051AB01 ,  2G051BA06 ,  2G051BA08 ,  2G051BA10 ,  2G051BC01 ,  2G051CA02 ,  2G051CA03 ,  2G051CB01 ,  2G051DA07 ,  2G051DA08 ,  2G051EA12 ,  2G051EA14 ,  2G051EC03 ,  2G051FA10 ,  2G059AA05 ,  2G059BB08 ,  2G059BB16 ,  2G059DD13 ,  2G059EE02 ,  2G059GG01 ,  2G059GG08 ,  2G059HH01 ,  2G059HH06 ,  2G059JJ01 ,  2G059JJ02 ,  2G059JJ05 ,  2G059JJ18 ,  2G059JJ22 ,  2G059JJ24 ,  2G059KK01 ,  2G059MM01 ,  2G059MM03 ,  2G059MM09 ,  2G059MM10 ,  2G059MM12 ,  2G059NN01 ,  2G059PP04 ,  4M106AA01 ,  4M106BA08 ,  4M106CA42 ,  4M106CB02 ,  4M106DB02 ,  4M106DB07 ,  4M106DB11 ,  4M106DH13 ,  4M106DJ01 ,  4M106DJ03 ,  4M106DJ05 ,  4M106DJ06 ,  4M106DJ12 ,  4M106DJ21