特許

J-GLOBAL ID：200903033268902687

露光方法及び露光装置

発明者： 横田 宗泰
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 飯塚 雄二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-281705
公開番号（公開出願番号）：特開平10-112432
出願日： 1996年10月03日
公開日（公表日）： 1998年04月28日
要約：

【要約】【課題】 感光基板上に露光されるパターン全体の重ね合わせ精度の向上を図ること。【解決手段】 感光基板(12)上へ露光をする際の露光位置補正を単位パターン(82a,82b,82c,82d)毎に行うとともに、露光位置補正を露光パターン(80a,80b,80c,80d)毎に行う。

請求項（抜粋）：

感光基板上に複数の単位パターンを継ぎ合わせて露光して所定の露光パターンを形成する露光方法において、前記感光基板上へ前記露光をする際の露光位置補正を前記単位パターン毎に行うことと、前記露光位置補正を前記露光パターン毎に行うこととを含んでいることを特徴とする露光方法。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521 ,  G03F 9/00

FI (4件)：

H01L 21/30 525 D ,  G03F 7/20 521 ,  G03F 9/00 H ,  H01L 21/30 525 W