連続ガス焼入れ方法及びシステム

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：三好秀和 (外8名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-039955
公開番号（公開出願番号）：特開2003-239016
出願日： 2002年02月18日
公開日（公表日）： 2003年08月27日
要約：

【要約】【課題】金属のガス焼入れを歪少なく、効率良く、しかも低資源で行うことができる連続ガス焼入れ方法及びシステムを提供する。【解決手段】最終焼入れ温度まで加熱できる1又は複数の加熱炉と1つのガス焼入れ専用装置とを、直接又は間接、或いは直列又は並列に連係し、最終加熱炉又は各加熱炉で焼入れ温度に加熱されたワークを真空ないし不活性ガス雰囲気を介して当該加熱炉から前記ガス焼入れ専用装置へ移動させ、前記ガス焼入れ専用装置で変態点温度での等温保持を含めて順次ガス焼入れすることを特徴とする連続ガス焼入れ方法及びシステム。

請求項（抜粋）：

最終焼入れ温度まで加熱できる1又は複数の加熱炉と1つのガス焼入れ専用装置とを、直接又は間接、或いは直列又は並列に連係し、最終加熱炉又は各加熱炉で焼入れ温度に加熱されたワークを真空ないし不活性ガス雰囲気を介して当該加熱炉から前記ガス焼入れ専用装置へ移動させ、前記ガス焼入れ専用装置で冷却し順次ガス焼入れすることを特徴とする連続ガス焼入れ方法。

IPC (4件)：

C21D 1/62 , C21D 1/00 119 , C21D 1/773 , C21D 11/00 105

FI (4件)：

C21D 1/62 , C21D 1/00 119 , C21D 1/773 D , C21D 11/00 105

Fターム (9件)：

4K034AA19 , 4K034FA02 , 4K034FB15 , 4K038BA02 , 4K038CA01 , 4K038CA03 , 4K038DA03 , 4K038EA03 , 4K038FA02

引用特許：

審査官引用 (8件)

特開昭63-148088
特開平3-257119
特開平3-257119

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