特許
J-GLOBAL ID：200903033280431614
位相シフトフォトマスク及び位相シフトフォトマスク用ブランクス
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
韮澤 弘 (外7名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-083434
公開番号（公開出願番号）：特開平6-308713
出願日： 1993年04月09日
公開日（公表日）： 1994年11月04日
要約：
【要約】【目的】 通常フォトマスク洗浄に用いられている物理的洗浄がそのまま適応でき、かつ、高精度で垂直な加工断面を有する位相シフトフォトマスク及び位相シフトフォトマスク用ブランクス。【構成】 透明基板1上に、透明な領域5と物理的気相成長法により形成したクロム化合物からなる半透明層4の領域とを有し、転写時の露光波長に対して、透明な領域5の透過率を100%としたとき、半透明層4の領域の透過率が3〜35%であり、かつ、半透明層4の領域が透明な領域5に対して、露光波長の位相を実質上180°シフトさせる構成とする。クロム化合物は、クロム、酸素、又は、クロム、酸素、窒素、又は、クロム、酸素、炭素、又は、クロム、酸素、窒素、炭素からなり、単層膜又は2層以上の多層膜からなる。
請求項（抜粋）：
透明基板上に、透明な領域と物理的気相成長法により形成したクロム化合物からなる半透明層の領域とを有し、転写時の露光波長に対して、透明な領域の透過率を100%としたとき、半透明層の領域の透過率が3〜35%であり、かつ、半透明層の領域が透明な領域に対して、露光波長の位相を実質上180°シフトさせる構成としたことを特徴とする位相シフトフォトマスク。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L 21/30 301 P
, H01L 21/30 311 W
