特許

J-GLOBAL ID：200903033291101403

クリーニング方法

発明者： 新納 礼二 ,  藤田 義幸 ,  大部 智行
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社
代理人 (1件)： 小原 肇
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-317817
公開番号（公開出願番号）：特開平6-151396
出願日： 1992年11月02日
公開日（公表日）： 1994年05月31日
要約：

【要約】【目的】 クリーニング時に被膜を処理容器等から剥離させることなく、しかも種々のクリーニングガスを用いて処理容器等にダメージを与えることなく短時間で効率良くクリーニングするクリーニング方法を提供する。【構成】 被処理体Wを収納し、この被処理体WにBPSG膜を形成する反応容器2の内部をクリーニングする方法において、上記反応容器2のクリーニング温度を、上記被処理体Wの処理時に保持されている上記反応容器2の温度近傍に保持した状態で、上記反応容器2内にクリーニングガスを供給し、このクリーニングガスにより上記反応容器2内に形成されたBPSG膜を除去するようにした。

請求項（抜粋）：

被処理体を収納し、この被処理体に所定の被膜を形成する処理容器の内部をクリーニングする方法において、上記処理容器のクリーニング温度を、上記被処理体の処理時に保持されている上記処理容器の温度近傍に保持した状態で、上記処理容器内にクリーニングガスを供給し、このクリーニングガスにより上記処理容器内に形成された被膜を除去することを特徴とするクリーニング方法。

IPC (2件)：

H01L 21/304 341 ,  H01L 21/302

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特開平4-155827
  
• 特開平4-157161
  
• 特開平4-155827
  
• 特開平4-157161