特許
J-GLOBAL ID：200903033291414894
投写光学系及び画像形成装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
丸島 儀一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-008187
公開番号（公開出願番号）：特開平8-201755
出願日： 1995年01月23日
公開日（公表日）： 1996年08月09日
要約：
【要約】【目的】 高輝度且つ高コントラストで、不必要な収差の発生を抑えた投写光学系を提供する。【構成】 照明系1から出射した光は,光学系2に入射して光軸6に対して角度2θを成す略平行光とされ,反射パネル3に到達する。反射パネル3は、法線方向と光学系2の光軸とが一致するように配置しており、この反射パネル3に対して正反射した光は、光学系2を通過し、その大部分は遮光部材4によって遮断され、投写面7上の暗部を形成する。反射パネル3の法線方向に反射し、光軸6に平行に射出された光束は、再度光学系2により集光されて遮光部材4の開口部41を通過し、投写面7上の明部を形成する。
請求項（抜粋）：
画素毎に、照明光が第1の方向に正反射する第1の状態と、前記照明光の少なくとも一部が前記第1の方向に正反射しない第2の状態とが切り換わる光学素子と、前記照明光として前記光学素子に斜入射する略平行光を形成するとともに、前記光学素子の画素により前記第1の方向に正反射した反射光を受けて投写する光学系とを有する投写光学系において、前記第1の方向が前記光学系の光軸とほぼ平行になるよう、前記第1の状態における前記画素の反射面を前記光学系の光軸に対して傾けることを特徴とする投写光学系。
IPC (5件)：
G02F 1/13 505
, G02B 26/08
, G02F 1/1333
, G03B 21/00
, H04N 5/74
