特許
J-GLOBAL ID：200903033294798340
真空ポンプシステムおよび真空ポンプシステムの制御方法
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-086029
公開番号（公開出願番号）：特開平7-265684
出願日： 1994年03月31日
公開日（公表日）： 1995年10月17日
要約：
【要約】【目的】 密閉容器から真空ポンプに至る管路上でダストを除去し、密閉容器内の圧力を所定の範囲に保持するとともに、真空ポンプシステムのメインテナンス工数を減らす。【構成】 半導体単結晶引き上げ装置の場合、炉体1からメカニカルブースタ9、ドライポンプ10に至る主管路3,8上に遠心力集塵装置2を設け、分岐管路14上に金網捕集式集塵装置15を設ける。真空引き当初は、炉体1内で発生したアモルファスシリコンを金網捕集式集塵装置15により捕集し、炉内圧力下降後は遠心力集塵装置2に切り換える。真空度の上昇に伴って気体流速が速くなるので、捕集限界粒子径が小さくなり捕集効率が上がる。捕集したアモルファスシリコンは遠心力集塵装置2の下部に堆積し、容易に除去できるので、メインテナンスが簡単である。また、従来のダストフィルタのように目詰まりを起こさないので、炉内圧力の変動が小さい。
請求項（抜粋）：
密閉容器内を低真空もしくは中真空にすることを目的とするポンプシステムであって、前記密閉容器から真空ポンプに至る管路上に遠心力集塵装置を設けたことを特徴とする真空ポンプシステム。
IPC (6件)：
B01J 3/02
, B01D 45/12
, B01D 46/10
, B04C 9/00
, C30B 35/00
, C30B 15/00
