特許

J-GLOBAL ID：200903033306154231

位相シフトマスクの検査方法とその装置

発明者： 星野 栄一 ,  小野寺 正則 ,  石渡 直行 ,  土井 一正
出願人/特許権者： 富士通株式会社
代理人 (1件)： 柏谷 昭司 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-060274
公開番号（公開出願番号）：特開平6-273916
出願日： 1993年03月19日
公開日（公表日）： 1994年09月30日
要約：

【要約】【目的】 位相シフトマスクの検査方法と装置に関し、位相シフトマスクのパターン段差の輪郭部と深さを精密な寸法精度で迅速に検査する手段を提供する。【構成】 ピンホール板41 によって点状に絞られた光源4から放出される異なる波長の光を含む複合光を、光学系(集光レンズ5)によって集光し、この光学系の色収差によって分散された異なる波長の光(第1波長光9、第2波長光10)をパターン段差3を有する位相シフトマスク1に入射し、この位相シフトマスク1を透過または、位相シフトマスク1から反射される異なる波長の光強度を、ピンホール板71 のピンホールを通して光検出器7によって選択的に検出し、このように検出されたパターン段差3の輪郭部と深さに対応する信号を基準となる参照信号と比較し、または、同一の位相シフトマスク1に形成された複数のパターン段差から得られた輪郭部と深さに対応する信号同士を比較して検査する。

請求項（抜粋）：

異なる波長の光を含む複合波長光を光学系によって集光し、該光学系の色収差によって分散された異なる波長の光をパターン段差を有する位相シフトマスクに入射し、該位相シフトマスクを透過または反射する異なる波長の光を選択的に検出することを特徴とする位相シフトマスクの検査方法。

IPC (3件)：

G03F 1/08 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/308

FI (2件)：

H01L 21/30 301 P ,  H01L 21/30 301 V

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 特開平4-318550
  
• 特開平4-318550