特許

J-GLOBAL ID：200903033343885602

露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法

発明者： 石川 旬
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 立石 篤司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-281671
公開番号（公開出願番号）：特開2001-102293
出願日： 1999年10月01日
公開日（公表日）： 2001年04月13日
要約：

【要約】【課題】 光学系の透過率の変動の影響を抑制して、より高精度な露光量制御を実現する。【解決手段】 第1の光センサ46により照明光学系12内部を通るエネルギビームELのエネルギ量が検出され、第2の光センサ27により投影光学系PLの少なくとも一部を通ったエネルギビームELのエネルギ量が検出される。そして、主制御装置50によって、両検出結果に基づいて、露光中に基板Wに与えられる積算エネルギ量が制御される。ここで、第1の光センサから基板面(像面)までの光路中のエネルギビームの透過率が変動した場合、この変動は、第2の光センサの検出値を第1の光センサの検出値で除して規格化した値に、ほぼ正確に反映される。従って、前記光路中の光学系の透過率変動を実質的に相殺して高精度な露光量制御を行うことが可能となる。

請求項（抜粋）：

マスクに形成されたパターンを基板に転写する露光装置であって、エネルギビームにより前記マスクを照明する照明光学系と;前記マスクから出射される前記エネルギビームを前記基板に投射する投影光学系と;前記照明光学系内部を通る前記エネルギビームのエネルギ量を検出する第1の光センサと;前記投影光学系内の少なくとも一部を通った前記エネルギビームのエネルギ量を検出する第2の光センサと;前記第1、第2の光センサの検出値に基づいて、露光中に前記基板に与えられる積算エネルギ量を制御する露光量制御装置とを備える露光装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521

FI (4件)：

G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 516 D ,  H01L 21/30 516 C ,  H01L 21/30 518

Fターム (5件)：

5F046BA03 ,  5F046CA04 ,  5F046DA02 ,  5F046DB01 ,  5F046DB10