特許

J-GLOBAL ID：200903033347618390

基板処理装置

発明者： 森西 健也 ,  西村 讓一
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
代理人 (1件)： 吉田 茂明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-296782
公開番号（公開出願番号）：特開2003-100620
出願日： 2001年09月27日
公開日（公表日）： 2003年04月04日
要約：

【要約】【課題】 処理ユニットの扉を開扉しても、ユニット内部の清浄度を維持できる基板処理装置を提供する。【解決手段】 処理ユニットUNの扉30が開扉されると、風量制御部が扉開閉センサ31からの開扉検知信号に応答し、ファンフィルタユニットFFUの出力を増加させ、処理ユニットUN内部への清浄化空気の流入量が、閉扉時より増加する。これにより、処理ユニットUN内部が装置外部よりも陽圧になり、装置外の清浄度が低い空気の流入が阻止され、内部の清浄度が維持される。その際、同時に排気部60からの排気量を減少させてもよい。また、開扉時の流入量の増分をエアカーテンで噴出することで、ユニット内部の雰囲気の装置外への漏出を阻止することもできる。さらに、処理ユニットUNの側面に、開扉と同時に閉鎖するシャッタを設け、隣接空間への雰囲気の漏出を阻止することもできる。

請求項（抜粋）：

それぞれが基板を処理する複数の処理ユニットを備えた基板処理装置において、前記基板処理装置がさらに、前記基板処理装置の外部と前記複数の処理ユニットのうち少なくとも1つの処理ユニットとを隔てる扉と、前記扉の開閉を検知するセンサと、前記少なくとも1つの処理ユニットに清浄化空気を供給する空気供給手段と、前記センサからの検知信号に応答して、前記扉の開扉時における前記空気供給手段からの清浄化空気供給量を、前記扉の閉扉時における前記空気供給手段からの清浄化空気供給量よりも増加させる風量制御手段と、を備えることを特徴とする基板処理装置。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  B05C 15/00 ,  H01L 21/68

FI (3件)：

B05C 15/00 ,  H01L 21/68 A ,  H01L 21/30 562

Fターム (28件)：

4F042AA06 ,  4F042AA07 ,  4F042BA13 ,  4F042DA01 ,  4F042DE06 ,  4F042DE09 ,  4F042EB05 ,  5F031CA02 ,  5F031FA01 ,  5F031FA09 ,  5F031FA12 ,  5F031GA03 ,  5F031GA47 ,  5F031GA49 ,  5F031JA01 ,  5F031MA02 ,  5F031MA04 ,  5F031MA23 ,  5F031MA24 ,  5F031MA26 ,  5F031NA03 ,  5F031NA09 ,  5F031NA16 ,  5F031NA17 ,  5F046AA28 ,  5F046JA07 ,  5F046JA08 ,  5F046LA07