特許
J-GLOBAL ID：200903033347771229
投影露光方法及び投影露光装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
高月 亨
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-134303
公開番号（公開出願番号）：特開平5-304075
出願日： 1992年04月27日
公開日（公表日）： 1993年11月16日
要約：
【要約】【目的】 複数のチップを投影露光する操作をくり返すとき、或る1回の投影における全投影は被投影ウェハから外れるが少なくとも1つの被露光有効チップは被露光材上に存在して有効に露光し得る場合には、それについて適正な条件を定めて投影露光を行うことができる投影露光方法及び投影露光装置を提供すること。【構成】 或る1回の投影における全投影2は被投影ウェハ10から外れるとともに少なくとも1つの被露光有効チップは被露光ウェハにある場合、該ウェハにあるチップ上のフォーカスデータを測定してそのフォーカスデータにより投影露光を行う投影露光方法及び装置。
請求項（抜粋）：
1回の投影で複数のチップを投影露光する操作をくり返す投影露光方法において、或る1回の投影における全投影は被投影ウェハから外れるとともに少なくとも1つのチップはウェハにある場合、該ウェハにあるチップ上のフォーカスデータを測定してそのフォーカスデータにより投影露光を行うことを特徴とする投影露光方法。
IPC (3件)：
H01L 21/027
, G03F 7/20 521
, G03F 7/207
