特許
J-GLOBAL ID：200903033350485938
オーバーライト可能な光磁気記録媒体の製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
岡部 正夫 (外5名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-143700
公開番号（公開出願番号）：特開平7-006423
出願日： 1993年06月15日
公開日（公表日）： 1995年01月10日
要約：
【要約】【目的】 繰り返し書き込みによる記録信号の劣化が少なくかつ製造スループットの良い光磁気記録媒体の製造方法を提供する。【構成】 重希土類の領域と遷移金属の領域が交互に連なったターゲットに対し、それら領域を横切る方向にマグネトロン用磁石を移動させてスパッタリングを行なう。
請求項（抜粋）：
重希土類金属の領域と遷移金属の領域が交互に連なったターゲットに対しそれら領域を横切る方向にマグネトロン用磁石を移動させると共に、該ターゲットの近傍に基板を配置して、スパッタリングを行うことにより、オーバーライト可能な光磁気記録媒体のライティング層を基板上に製造する光磁気記録媒体の製造方法。
IPC (2件)：
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