特許

J-GLOBAL ID：200903033360880983

素子の転写方法及びこれを用いた素子の配列方法、画像表示装置の製造方法

発明者： 大畑 豊治 ,  友田 勝寛
出願人/特許権者： ソニー株式会社
代理人 (1件)： 佐藤 勝
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-120477
公開番号（公開出願番号）：特開2002-311858
出願日： 2001年04月19日
公開日（公表日）： 2002年10月25日
要約：

【要約】【課題】 転写対象となる素子のみを確実に、効率的且つ精度良く転写する。【解決手段】 第1の基板上に配列された複数の素子を第2の基板上に転写する素子の転写方法である。第1の基板上の複数の素子を離型剤で被覆した後、転写する素子上の離型剤を選択的に除去する。次に、第1の基板上に配列された素子と第2の基板上に設けられた接着剤層とが対向するように、これら第1の基板と第2の基板とを貼り合わせ、第1の基板の裏面側から離型剤を除去した素子にのみレーザを照射する。その後、第1の基板から第2の基板を剥離する。

請求項（抜粋）：

第1の基板上に配列された複数の素子を第2の基板上に転写する素子の転写方法において、上記第1の基板上の複数の素子を離型剤で被覆する工程と、転写する素子上の離型剤を選択的に除去する工程と、第1の基板上に配列された素子と第2の基板上に設けられた接着剤層とが対向するように、これら第1の基板と第2の基板とを貼り合わせる工程と、第1の基板の裏面側から上記離型剤を除去した素子にレーザを照射する工程と、上記第1の基板から第2の基板を剥離する工程とを有することを特徴とする素子の転写方法。

IPC (3件)：

G09F 9/33 ,  G09F 9/00 338 ,  H01L 33/00

FI (3件)：

G09F 9/33 Z ,  G09F 9/00 338 ,  H01L 33/00 N

Fターム (21件)：

5C094AA02 ,  5C094AA43 ,  5C094BA23 ,  5C094CA19 ,  5C094DA13 ,  5C094GB10 ,  5F041AA37 ,  5F041AA42 ,  5F041CA04 ,  5F041CA40 ,  5F041CA46 ,  5F041CA82 ,  5F041CA92 ,  5F041DA08 ,  5F041DA13 ,  5F041DA20 ,  5F041FF06 ,  5G435AA17 ,  5G435BB04 ,  5G435EE33 ,  5G435KK05