特許
J-GLOBAL ID:200903033382528647
相補形MOSカラーフィルタの処理方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
西川 惠清 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-216071
公開番号(公開出願番号):特開平11-354770
出願日: 1998年07月30日
公開日(公表日): 1999年12月24日
要約:
【要約】【課題】 相補形金属-酸化物-半導体(CMOS)イメージセンサからカラーフィルタフィルムを除去するための再加工方法を提供することである。【解決手段】 本発明の方法において、平面フィルムおよびカラーフィルムを含むカラーフィルタフィルムがCMOSデバイスのパシベーション後に形成される。カラーフィルタフィルムがプリベークされているかどうかにかかわらず、本発明の再加工方法は有効である。本発明の方法は、連続して実施されるプラズマプロセス、溶媒プロセス、およびプラズマプロセスを含む。
請求項(抜粋):
カラーフィルタフィルムおよびパシベーション層が連続して形成されているトランジスタメインデバイスを準備し、前記カラーフィルタフィルムをパターンニングし、熱処理プロセスを実施し、カラーフィルタフィルムの一部を除去するために第1プラズマ処理を実施し、カラーフィルタフィルムを軟化させるために溶媒プロセスを施し、カラーフィルタフィルムの残部を除去するために第2プラズマプロセスを実施することを特徴とする相補形金属-酸化物-半導体(CMOS)イメージセンサのカラーフィルタフィルムを除去する再加工方法。
IPC (2件):
H01L 27/14
, G02B 5/20 101
FI (2件):
H01L 27/14 D
, G02B 5/20 101
引用特許:
審査官引用 (3件)
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特開平3-043701
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特開昭61-148402
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固体撮像装置と画像撮像装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平7-197471
出願人:キヤノン株式会社
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